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用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备

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摘要

本发明涉及一种用于使用频域干涉测量法进行光学成像的方法和设备。提供了一种设备和方法。具体而言，至少一个第一电磁辐射可以提供给样品并且至少一个第二电磁辐射可以提供给非反射的参考。所述第一和/或第二辐射的频率随时间变化。在关联于所述第一辐射的至少一个第三辐射与关联于所述第二辐射的至少一个第四辐射之间检测干涉。可替换地，所述第一电磁辐射和/或第二电磁辐射具有随时间变化的谱。所述谱在特定时间可以包含多个频率。另外，有可能以第一偏振态检测所述第三辐射与所述第四辐射之间的干涉信号。此外，可以优选地以不同于所述第一偏振态的第二偏振态检测所述第三和第四辐射之间的又一干涉信号。所述第一和/或第二电磁辐射可以具有中值频率以大于每毫秒100万亿赫兹的调谐速度随时间基本上连续变化的谱。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-26

    授权

    授权

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 5/00 申请日:20040908

    实质审查的生效

  • 2013-09-11

    公开

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