法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-11-03
授权
授权
2016-10-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/00 申请日:20160707
实质审查的生效
2016-10-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/00 申请日:20160707
实质审查的生效
2016-09-14
公开
公开
2016-09-14
公开
公开
机译: 结场效应晶体管制造方法,半导体器件制造方法,成像器件制造方法,结场效应晶体管和成像器件
机译: 折磨外部光效应半导体成像器件的电路
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