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一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法

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本发明公开了一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法，该分析方法根据有限元工程分析软件对热环境变化引起的透镜变形进行分析，得到透镜各个节点的变形数据。将变形数据进行一定的数据处理后得到透镜矢高方向的变形量。对变形量进行泽尼克多项式拟合，得到泽尼克系数。将泽尼克系数输入到光学仿真软件中查看变形后的成像结果。该方法可以对复杂热环境下的光学系统设计提供指导作用。

著录项

公开/公告号CN104537182B

专利类型发明专利
公开/公告日2017-11-24

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院光电技术研究所;
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申请/专利号CN201510002637.9
发明设计人程依光;刘俊伯;胡松;赵立新;
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申请日2015-01-05
分类号
代理机构
代理人
地址 610209 四川省成都市双流350信箱
入库时间 2022-08-23 10:03:23

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-11-24

授权

授权
2015-05-20

实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20150105

实质审查的生效
2015-05-20

实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20150105

实质审查的生效
2015-04-22

公开

公开
2015-04-22

公开

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