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一种虚拟图案多层堆栈单元的自我双图型分解方法

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摘要

本发明涉及一种虚拟图案多层堆栈单元的自我双图型分解方法以及由此形成的版图双图型分解流程，所述方法包括：步骤（a）分解定义原始虚拟图案多层堆栈单元为两个新的多层堆栈单元A和B；步骤（b）首先定义所述填充起始点，从填充起始点开始填充A堆栈单元，得到占全部虚拟图案1/4的第一堆栈虚拟图案；步骤（c）向右转移所述填充起始点，以步骤（b）的填充间隔在所述第一虚拟图案的一侧填充B堆栈单元；步骤（d）向上转移所述填充起始点，以相同的填充间隔在第一虚拟图案的上方填充B堆栈单元；步骤（e）向右上方对角线方向转移填充起始点，以步骤（b）的填充间隔在剩余的空间内填充A堆栈单元。本方法能够实现双图型（double pattern）自我分解。

著录项

  • 公开/公告号CN104778288B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201410014615.X

  • 发明设计人 樊强;李雪;

    申请日2014-01-13

  • 分类号

  • 代理机构北京市磐华律师事务所;

  • 代理人董巍

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 10:07:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-06

    授权

    授权

  • 2015-08-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20140113

    实质审查的生效

  • 2015-07-15

    公开

    公开

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