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用于在x射线曝光期间评估x射线射束不均匀性的源的存在的方法

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摘要

对通过x射线检测器的基本上均匀的照射获得的图像中的至少一个关注区域的像素值执行统计分析，并且通过将统计分析的结果与至少一个预定接受准则进行比较来决定x射线射束不均匀性的源的存在。

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-05-24

专利权的转移 IPC(主分类):H04N5/32 登记生效日:20190507 变更前: 变更后: 申请日:20130605

专利申请权、专利权的转移
2018-04-20

授权

授权
2015-03-11

实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/32 申请日:20130605

实质审查的生效
2015-02-11

公开

公开

1. 用于在x射线曝光期间评估x射线射束不均匀性的源的存在的方法 [P] . 中国专利： CN104350738B . 2018.04.20
2. 在X射线管的旋转阳极盘的圆周方向上的动态焦斑跳跃期间的电子射束的消隐 [P] . 中国专利： CN104335318B . 2017.06.27
3. A method to evaluate the presence of a source of x-ray beam inhomogeneity during x-ray exposure. [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2675151A1 . 2013-12-18

机译：一种评估X射线曝光期间X射线束不均匀性源的存在的方法。
4. Method to evaluate the presence of a source of x-ray beam inhomogeneity during x-ray exposure [P] . 美国专利： US9741102B2 . 2017-08-22

机译：评估x射线曝光过程中x射线束不均匀性源的存在的方法
5. method for assessing presence of homogeneous x-ray beam source during x-ray exposure [P] . BR112014030423A2 . 2017-06-27

机译：评估X射线曝光期间均匀X射线束源的存在的方法