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公开/公告号CN106605450B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-11
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN201580047065.4
发明设计人 V·V·德什潘德;S·V·德什潘德;D·克利斯;O·格鲁申克夫;S·克里什南;
申请日2015-09-01
分类号
代理机构北京市金杜律师事务所;
代理人酆迅
地址 美国纽约阿芒克
入库时间 2022-08-23 10:11:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-11
授权
2017-05-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H05G2/00 申请日:20150901
实质审查的生效
2017-04-26
公开
机译: 极紫外(EUV)辐射源,用于产生极紫外(EUV)光
机译: EUV辐射源,用于EUV辐射源,用于EUV辐射源
机译: EUV辐射源,插入EUV辐射源,插入EUV辐射源的插入件
机译:激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:极紫外(EUV)源和超高真空室,用于研究EUV诱导的过程
机译:聚(烯烃砜)的极紫外(EUV)降解:有望用作EUV光刻胶
机译:基于聚焦束中太赫兹气体放电等离子体的点状极紫外辐射源
机译:极紫外(EUV)光谱作为多电荷离子相互作用的探针。
机译:Harmonium:保留脉冲的单色极紫外光(30–110 eV)辐射源用于液体的超快光电子光谱学
机译:Harmonium:一种脉冲保持单色极紫外(30-110 eV)辐射源,用于液体的超快光电子能谱
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。