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用于样品椭圆偏振光二维显示的装置,显示方法及具有空间分辨率的椭圆偏振光测量方法

摘要

本发明涉及一种用于样品椭圆偏振光二维显示的装置,上述样品安放在一入射介质中,在通过会聚光反射交叉的分析器和偏振器之间观察,其中处理由样品和一个衬底所形成的组件的椭圆偏振参数,上述样品安放在衬底上。衬底包括一个基底和一个基底叠层,并且衬底的椭圆偏振性能已知。衬底的椭圆偏振性能是这样的,即可以在其对比度高于没有上述衬底所产生的对比度的情况下显示样品椭圆偏振参数的变化。本发明还涉及一种显示方法和一种具有空间分辨率的椭圆偏振测量方法。

著录项

  • 公开/公告号CN1275030C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-09-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN01822080.0

  • 发明设计人 D·奥塞尔;M-P·瓦利尼亚;

    申请日2001-12-18

  • 分类号G01N21/21(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人于静;李峥

  • 地址 法国巴黎

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-09-13

    授权

    授权

  • 2004-06-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-04-14

    公开

    公开

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