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超长光纤光栅刻写在线监测系统及方法

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摘要

本发明涉及一种超长光纤光栅刻写在线监测系统，它的第一显微镜和第二显微镜用于观测光纤光栅刻写装置中被刻写光栅曝光区域与掩膜板的之间是否平行，拉力计用于对被刻写光栅曝光区域的两端提供预设的拉力，第一水平仪和第二水平仪用于监测对被刻写光栅曝光区域的两端是否在同一水平面上；所述调谐光源的光信号输出端连接第一耦合器，第一耦合器的第一信号输出端连接环形器，环形器连接光纤光栅刻写装置中的被刻写光纤的端部，环形器连接第二耦合器的第一输入端，第一耦合器的第二输出端连接第二耦合器的第二输入端，第二耦合器的输出端连接光电探测器的光信号输入端。利用本发明制作的光栅精度好、光栅谱形好、一致性高。

著录项

  • 公开/公告号CN106568382B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN201610998200.X

  • 发明设计人 桂鑫;李政颖;王洪海;王凡;王一鸣;张纯;曾思悦;

    申请日2016-11-14

  • 分类号G01B11/00(20060101);G01B9/02(20060101);G02B6/02(20060101);

  • 代理机构42104 武汉开元知识产权代理有限公司;

  • 代理人潘杰;李满

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2022-08-23 10:25:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-01

    授权

    授权

  • 2017-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/00 申请日:20161114

    实质审查的生效

  • 2017-05-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/00 申请日:20161114

    实质审查的生效

  • 2017-04-19

    公开

    公开

  • 2017-04-19

    公开

    公开

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