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通过磁控溅射在聚酯表面沉积透明导电薄膜的界面层方法

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本发明提供了一种通过磁控溅射在聚酯表面沉积透明导电薄膜的界面层方法，包括如下步骤：步骤S1：采用磁控溅射机中的反溅射对聚酯基底进行等离子体表面处理，产生大量悬挂键，同时增加表面粗糙度；步骤S2：在等离子体处理后的聚酯基底表面上生长一层B₂O₃纳米修饰层；步骤S3：在B₂O₃纳米修饰层上再生长透明导电薄膜层。本发明通过磁控溅射法在聚酯表面沉积透明导电薄膜的界面层技术，显著地提高了透明导电薄膜与聚酯基底之间的附着力，同时，在一定程度上提升了透明导电薄膜的光学透过率和导电性能。

著录项

公开/公告号CN106086789B

专利类型发明专利
公开/公告日2019-03-22

原文格式PDF
申请/专利权人上海交通大学;上海卫星装备研究所;
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申请/专利号CN201610510378.5
发明设计人张亚非;刘刚;王惠芬;马德福;苏言杰;
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申请日2016-06-30
分类号C23C14/08(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/02(20060101);H01B1/08(20060101);
代理机构31236 上海汉声知识产权代理有限公司;
代理人郭国中
地址 200240 上海市闵行区东川路800号
入库时间 2022-08-23 10:28:03

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-03-22

授权

授权
2017-04-05

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/08 申请日:20160630

实质审查的生效
2017-04-05

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/08 申请日:20160630

实质审查的生效
2016-11-09

公开

公开
2016-11-09

公开

公开

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