公开/公告号CN105359630B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-19
原文格式PDF
申请/专利权人 格马尔托股份有限公司;
申请/专利号CN201480039154.X
申请日2014-06-19
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人臧永杰
地址 法国默东
入库时间 2022-08-23 10:31:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-19
授权
授权
2016-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H05K1/03 申请日:20140619
实质审查的生效
2016-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):H05K 1/03 申请日:20140619
实质审查的生效
2016-02-24
公开
公开
2016-02-24
公开
公开
机译: 具有介电膜和用于制造介电膜的间歇式原子层沉积装置的介电膜的制造方法和金属绝缘体金属电容器的制造方法
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