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确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法

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摘要

本发明是关于一种确定影响膜系工艺漂移及均匀性的主要膜层的分析方法，根据实际生产的膜系结构建立光学模型，得到每层薄膜厚度变化对产品性能的影响，形成对应于各膜层并体现产品性能变化趋势的矩阵；同时将产品性能的实际检测结果的变化状态用矩阵表示，并将两矩阵相乘，由计算结果确定影响产品工艺波动及均匀性的主要影响膜层，本发明采用矩阵方式分析各膜层对产品性能的影响，计算方法清晰简单便于识别，可以使分析过程计算程序化、达到自动监控分析。利用本发明可以快速确定影响产品工艺波动及均匀性的主要膜层，便于制定工艺调整制度，有利于连续生产中对工艺进行修正，保障生产的稳定、连续性。

著录项

  • 公开/公告号CN107101953B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国建筑材料科学研究总院;

    申请/专利号CN201710458745.6

  • 发明设计人 余刚;汪洪;

    申请日2017-06-16

  • 分类号G01N21/25(20060101);

  • 代理机构11348 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王伟锋;刘铁生

  • 地址 100024 北京市朝阳区管庄东里1号

  • 入库时间 2022-08-23 10:33:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-04

    授权

    授权

  • 2017-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/25 申请日:20170616

    实质审查的生效

  • 2017-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/25 申请日:20170616

    实质审查的生效

  • 2017-08-29

    公开

    公开

  • 2017-08-29

    公开

    公开

  • 2017-08-29

    公开

    公开

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