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一种掩膜集成框架及其制造方法

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本发明实施例提供一种掩膜集成框架及其制造方法，涉及蒸镀技术领域，可解决现有技术中掩膜片褶皱翘曲、更换或修复支撑条和遮挡条导致的成本增加、支撑条和遮挡条与掩膜片的相对位置无法调整、掩膜集成框架清洗不净的问题。包括：第一框架和第二框架，第一框架和第二框架均具有中空区域，且第一框架和第二框架通过套设固定连接；多个掩膜片，多个掩膜片依次跨设于第一框架的中空区域，且掩膜片的相对两端固定在第一框架上；遮挡条和/或支撑条，遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，且遮挡条和/或支撑条的相对两端固定在第二框架上；其中，遮挡条位于相邻掩膜片之间的间隙位置，支撑条横跨多个掩膜片的无效掩膜区以支撑多个掩膜片。

著录项

公开/公告号CN108251792B

专利类型发明专利
公开/公告日2019-12-31

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;
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申请/专利号CN201810023957.6
发明设计人罗昶;吴建鹏;
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申请日2018-01-10
分类号
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司;
代理人申健
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 10:47:30

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-12-31

授权

授权
2018-07-31

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20180110

实质审查的生效
2018-07-31

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/04 申请日:20180110

实质审查的生效
2018-07-06

公开

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2018-07-06

公开

公开
2018-07-06

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