首页> 中国专利> 在基体、涂层基体和包含涂层基体的半成品上产生结构化涂层的方法

在基体、涂层基体和包含涂层基体的半成品上产生结构化涂层的方法

摘要

本发明涉及一种在基体、涂层基体和包含涂层基体的半成品上产生结构化涂层的方法。具体地,本发明涉及一种用于在基体上产生结构化涂层的方法,其中所述方法包括如下步骤:提供具有待涂覆表面的基体;以及通过如下方式在基体的待涂覆表面上产生结构化涂层:借助于至少一种气相沉积涂层材料的热蒸发并使用附加结构化在基体的待涂覆表面上沉积至少一种气相沉积涂层材料即氧化铝、二氧化硅、四氮化三硅、或二氧化钛。本发明还涉及一种涂层基体和一种具有涂层基体的半成品。

著录项

  • 公开/公告号CN106435485B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MSG里松格莱斯有限责任公司;

    申请/专利号CN201610182116.0

  • 申请日2010-07-22

  • 分类号C23C14/30(20060101);C23C14/04(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/06(20060101);H01L21/48(20060101);H01L23/498(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王潜;郭国清

  • 地址 德国德累斯顿

  • 入库时间 2022-08-23 10:55:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-21

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/30 申请日:20100722

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/30 申请日:20100722

    实质审查的生效

  • 2017-02-22

    公开

    公开

  • 2017-02-22

    公开

    公开

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