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射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法

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摘要

本发明涉及一种射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)。所述反射器(21)的表面是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将所述入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给所述相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)。本发明也涉及一种具有这种射束阱(20)的射束引导装置、具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备(1)以及所属的用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束(5)的方法。

著录项

  • 公开/公告号CN107405728B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通快激光系统半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN201580077421.7

  • 发明设计人 M·兰贝特;

    申请日2015-03-04

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人郭毅

  • 地址 德国迪琴根

  • 入库时间 2022-08-23 10:58:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-12

    授权

    授权

  • 2017-12-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):B23K26/70 申请日:20150304

    实质审查的生效

  • 2017-11-28

    公开

    公开

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