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电子器件、光电子器件、器件装置和用于制造电子器件的方法

摘要

一种用于制造电子器件的方法包括:通过光刻工艺在载体(2)的上侧形成牺牲结构(470)以及使用模制部分(481)对布置在载体(2)的上侧的牺牲结构(470)和电子半导体芯片(430)进行成形,使得所述电子半导体芯片(430)的表面(435)至少部分地不被模制部分(481)覆盖。作为另外的步骤,所述方法包括使所述模制部分(481)从所述载体(2)脱离以及去除牺牲结构(470),其中通过去除所述牺牲结构(470)在所述模制部分(470)中形成凹处。

著录项

  • 公开/公告号CN107112385B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201580054044.5

  • 发明设计人 L.海贝格尔;M.施佩尔;

    申请日2015-08-04

  • 分类号H01L33/00(20100101);H01L33/48(20100101);H01L33/54(20100101);H01L33/62(20100101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人臧永杰;刘春元

  • 地址 德国雷根斯堡

  • 入库时间 2022-08-23 11:13:16

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