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高强度超疏水自清洁涂层和高强度减反增透超疏水自清洁涂层以及它们的制备方法

摘要

本发明公开一种高强度超疏水自清洁涂层及其制备方法,所述高强度超疏水自清洁涂层是在固体基底上将经过低表面能物质修饰的两种不同粒径的二氧化硅球形纳米粒子、四乙氧基硅烷和盐酸通过喷涂的方法制备而成的;本发明还提供一种高强度减反增透超疏水自清洁涂层及其制备方法,所述高强度减反增透超疏水自清洁涂层是通过在玻璃基底或其他透明基底上先喷涂粒径为10‑100nm的二氧化硅球形纳米粒子,然后在其表面制所述的高强度的超疏水自清洁涂层而得到的;本发明制备的涂层具有良好的超疏水性能;同时有良好的机械性能,强度高;且制备方法简单,耗时短,对设备要求低,在常温下即可获得;所述涂层适用于不同基底、适合大规模生产等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN108299869B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院理化技术研究所;

    申请/专利号CN201610725726.0

  • 发明设计人 贺军辉;任婷婷;

    申请日2016-08-25

  • 分类号C09D1/00(20060101);C09D7/63(20180101);C03C17/00(20060101);C03C17/34(20060101);

  • 代理机构11257 北京正理专利代理有限公司;

  • 代理人张文祎;赵晓丹

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村东路29号

  • 入库时间 2022-08-23 11:14:06

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