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一种增强发光薄膜荧光发光强度的叠层结构及其制备方法

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本发明公开了一种增强发光薄膜荧光发光强度的叠层结构及其制备方法，所述叠层结构包括依次层叠连接的单层介电微球阵列、发光薄膜和衬底，同时还包括，嵌设在所述发光薄膜和衬底之间的第一金属纳米颗粒层，及嵌设在所述发光薄膜和单层介电微球阵列之间的第二金属纳米颗粒层。本发明所提供的增强发光薄膜荧光发光强度的叠层结构结合了介电微球光场调控与金属表面等离激元耦合效应的共同作用，可使得发光薄膜的发光强度显著增强，远远高于单独使用金属纳米颗粒层或单层介电微球阵列的增强效果；其制备成本低廉、方法简单、工艺耗时短、且不受任何衬底的限制，适用于高质量半导体发光薄膜的发光增强。

著录项

  • 公开/公告号CN110212075B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201910393599.2

  • 发明设计人 闫胤洲;张玉洁;蒋毅坚;杨立学;邢承;

    申请日2019-05-13

  • 分类号H01L33/50(20100101);C23C14/16(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/34(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/28(20060101);C23C28/00(20060101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王文君;陈征

  • 地址 100022 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2022-08-23 11:27:36

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