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光学折射率调制聚合物、光学折射率调制聚合物组合物和折射率调节方法

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摘要

本发明的目的是提供调节折射率的方法，通过该方法，可有效地改变光学聚合物模制品的折射率，而无需复杂的步骤，例如预先氧化的步骤；并且该方法可用于制备光学器件，对光学器件赋予优异的透明度。本发明的另一个目的是提供用于该方法的光学折射率调制聚合物或光学折射率调制聚合物组合物。本发明涉及调节折射率的方法，其特征在于：用射线，例如紫外线照射下述光学折射率调制聚合物或含有该聚合物的组合物，以使乙烯基反应并由此产生密度改变，以便通过照射，产生0.005或更大的折射率增加(Δn)，所述聚合物为包括下述通式表示的丙烯酸乙烯基单体的一种或多种单体作为必要成分的聚合物，且所述聚合物在分子中残留有可自由基聚合的乙烯基侧链，CH

著录项

公开/公告号CN100424102C

专利类型发明授权
公开/公告日2008-10-08

原文格式PDF
申请/专利权人日东电工株式会社;
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申请/专利号CN200480028838.6
发明设计人川口佳秀;诸石裕;井上彻雄;宗和范;
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申请日2004-10-01
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人封新琴
地址日本大阪府
入库时间 2022-08-23 09:01:06

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-11-28

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08F 20/40 授权公告日:20081008 终止日期:20111001 申请日:20041001

专利权的终止
2008-10-08

授权

授权
2007-01-10

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-11-15

公开

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