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一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置

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本发明公开了纳米材料镀膜装置技术领域的一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法包括添加溶液、基片装夹、蒸发镀膜、预抽真空和循环操作，该基片强适应性纳米材料均匀成膜装置，包括第一真空室和第二真空室，所述第二真空室焊接于第一真空室的右侧，所述第一真空室的内腔右侧顶部和第二真空室的内腔左侧顶部均安装有电动推杆，该基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置，通过设置有两个真空室，在对其中一个真空室内的基片进行成膜时，对另一个真空室进行基片装夹和预抽真空的操作，减少了基片成膜时抽真空的等待时间，可实现连续作业，提高了成膜效率，此外还对蒸发镀膜的流量进行精确控制，其基片上纳米材料的成膜更加均匀。

著录项

公开/公告号CN109536895B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-22

原文格式PDF
申请/专利权人宝鸡文理学院;
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申请/专利号CN201811348200.0
发明设计人康翠萍;
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申请日2018-11-13
分类号C23C14/24(20060101);C23C14/56(20060101);C23C14/54(20060101);B82Y40/00(20110101);
代理机构61223 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人李振瑞
地址 721016 陕西省宝鸡市高新大道1号
入库时间 2022-08-23 11:29:48

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