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一种基于硼纳米片的可饱和吸收体器件及应用

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本发明公开了一种基于硼纳米片的可饱和吸收体器件及应用。硼纳米片均匀涂在反射镜或微纳光纤表面构成可饱和吸收体器件，反射镜为金镜或银镜，微纳光纤为拉锥光纤或D形光纤；或者分散在透明基质内形成复合物薄膜构成可饱和吸收体器件，透明基质为有机聚合物。本发明发现了一种全新的具有优异可饱和吸收特性的材料体系，为开发新型可饱和吸收体提供了新的选择，硼纳米片可大规模、廉价地使用溶液超声剥离法制备，本发明具有廉价、适合大规模制备、体积小、可组成多种类型的锁模器件的优点，相比于目前商业化的半导体可饱和吸收镜(SESAM)技术大大降低了成本。

著录项

公开/公告号CN109361141B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-29

原文格式PDF
申请/专利权人浙江大学;
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申请/专利号CN201811039555.1
发明设计人郭强兵;邱建荣;
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申请日2018-09-06
分类号H01S3/098(20060101);G02B5/00(20060101);
代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;
代理人林超
地址 310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
入库时间 2022-08-23 11:30:39

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