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射流片、用于循环射流片内的流体的系统和流体流动结构

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一种射流片，该射流片包括流体通道层，该流体通道层包括沿着流体喷射设备的长度限定的至少一个流体通道。射流片还包括耦接到流体通道层的中介层。该中介层包括限定在中介层中的多个输入端口以将至少一个通道层射流地耦接到流体源，并且中介层包括限定在中介层中的多个输出端口以将至少一个通道层射流地耦接到流体源。

著录项

公开/公告号CN111032359B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-03-26

原文格式PDF
申请/专利权人惠普发展公司有限责任合伙企业;
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申请/专利号CN201780093776.4
发明设计人 S-L·乔伊;C-H·陈;M·W·坎比;
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申请日2017-09-20
分类号B41J2/14(20060101);B41J2/175(20060101);
代理机构11602 北京市汉坤律师事务所;
代理人张涛;吴丽丽
地址美国德克萨斯州
入库时间 2022-08-23 11:36:50

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