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公开/公告号CN111554342B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-13
原文格式PDF
申请/专利权人 三星电子株式会社;
申请/专利号CN202010118703.X
发明设计人 韩煜基;
申请日2017-06-27
分类号G11C16/34(20060101);G11C16/16(20060101);G11C16/08(20060101);G11C16/04(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人邵亚丽
地址 韩国京畿道
入库时间 2022-08-23 11:38:49
机译: 非易失性半导体存储器件的测试方法和擦除方法非易失性半导体存储器件,非易失性半导体存储器件
机译: 允许擦除任意存储单元的存储数据的非易失性半导体存储器件以及在非易失性半导体存储器件中擦除数据的方法
机译: 可以在块基础上擦除数据的非易失性半导体存储器件以及在该非易失性半导体存储器件中以块为基础擦除数据的方法
机译:使用Fowler-Nordheim编程和热孔擦除方法的70 nm氧化硅-氮化物-氧化硅-非易失性存储器件
机译:基于SnO_2纳米粒子/聚苯乙烯纳米复合材料的稳定非易失性存储器件的写入和擦除机制
机译:基于硅酸Ha绝缘子的可光擦除有机非易失性存储器件
机译:新型P / sup +/-多晶硅栅氮化物俘获非易失性存储器件的软擦除和重新填充方法,具有出色的耐久性和保持性
机译:基于氮化物的局部电荷陷阱非易失性存储器件的阈值电压不稳定性。
机译:基于铜酞菁的非易失性存储器件薄膜
机译:电极:具有皱纹表面的石墨烯氧化物电极,用于非易失性聚合物存储器件相容性(小方法7/2018)
机译:非易失性和低温兼容的量子存储器件(QumEm)。