首页> 中国专利> 一种磁流变抛光边缘去除函数建模与边缘效应抑制方法

一种磁流变抛光边缘去除函数建模与边缘效应抑制方法

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

本发明公开了一种磁流变抛光边缘去除函数建模与边缘效应抑制方法，该方法包括如下步骤：S1、在一定的抛光缎带浸入深度和采斑时间下，分别采集非边缘抛光斑，以及切入边缘、切出边缘两种情形下不同切触距离的抛光斑，获取非边缘抛光斑的长度和宽度。S2、建立基于Bezier样条的磁流变抛光去除函数参数化模型；S3、建立不同切触状态的边缘去除函数重构方法；S4、制定基于边缘去除函数模型的驻留时间求解策略。本发明设计的去除函数模型具有解析形式、几何自由度高，解决了当前磁流变抛光边缘去除函数补偿方法存在的形态误差大、边缘面形控制不佳的问题，提升了边缘去除函数的模型精度和边缘效应的抑制水平。

著录项

公开/公告号CN110883608B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-04-13

原文格式PDF
申请/专利权人中国工程物理研究院机械制造工艺研究所;
展开▼

申请/专利号CN201911005823.2
发明设计人樊炜;张云飞;黄文;刘晓卓;周涛;田东;
展开▼

申请日2019-10-22
分类号B24B1/00(20060101);B24B51/00(20060101);
代理机构51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙);
代理人李朝虎
地址 621000 四川省绵阳市绵山路64号
入库时间 2022-08-23 11:38:54

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 一种磁流变抛光边缘去除函数建模与边缘效应抑制方法 [P] . 中国专利： CN110883608B . 2021.04.13
2. 一种磁流变抛光边缘去除函数建模与边缘效应抑制方法 [P] . 中国专利： CN110883608A . 2020-03-17
3. Image forming apparatus and method capable of obtaining high quality image suppressing edge effect [P] . 美国专利： US8626039B2 . 2014-01-07

机译：能够获得高质量图像抑制边缘效应的图像形成设备和方法
4. A method for controlling the exposure for an electrophotographic apparatus for suppression of the edge effect in images [P] . 德国专利： DE19731752C2 . 2001-02-22

机译：控制电子照相设备的曝光以抑制图像中的边缘效应的方法
5. A method for eliminating edge effects in chemical vapor deposition of metals. [P] . 日本专利： JP2002510143A . 2002-04-02

机译：一种消除金属化学气相沉积中边缘效应的方法。