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彩膜基板和制造彩膜基板的方法

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摘要

本申请公开了一种制造彩膜基板的方法，包括：形成黑矩阵层，其包括在基体基板(1)上形成多个黑矩阵(4)，从而限定多个子像素区域(R1,R2,R3)，所述多个黑矩阵(4)被形成为具有多个孔；在所述多个子像素区域(R1,R2,R3)的多个第一子像素区域(R1)中分配第一彩膜材料，从而形成第一彩膜材料层，所述第一彩膜材料渗透到邻近所述多个第一子像素区域(R1)的黑矩阵(4)的孔中；以及形成第一彩膜层(10)。在形成所述第一彩膜层(10)之后，所述第一彩膜材料保持在邻近所述多个第一子像素区域(R1)的所述黑矩阵(4)的至少第一部分(P1)中。本申请还公开了一种彩膜基板。

著录项

公开/公告号CN109219771B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-06

原文格式PDF
申请/专利权人京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司;
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申请/专利号CN201780000135.X
发明设计人姚成鹏;倪欢;张新霞;解晓龙;李群;郭霄;
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申请日2017-03-17
分类号G02F1/1335(20060101);
代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;
代理人罗瑞芝;陈源
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
入库时间 2022-08-23 12:16:10

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