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一种在分子尺度上原位测定低矿化度水驱过程的方法

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本发明公开了一种利用耗散型石英晶体微天平(QCM‑D)在分子尺度上原位在线模拟低矿化度水驱过程的方法。选用不同模型化合物对商用QCM‑D芯片进行改性修饰，用以模拟具有不同润湿性的岩石表面。选用C5Pe、Bisa等具有代表性的模型化合物模拟原油中容易粘附在岩石表面上的极性组分。液体环境由离子种类和浓度不同的水溶液提供。本发明通过这套模拟系统，可实现在微观层面上原位在线模拟低矿化度水驱过程，从而为实际低矿化度水驱工作提供理论支持。另外，通过对比原油模拟物在不同润湿性表面上的吸附和脱附行为，还可以对低矿化度水驱的微观机理及低矿化度效应进行更深入的分析与讨论。

著录项

公开/公告号CN111413401B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-14

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院化学研究所;
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申请/专利号CN202010342941.9
发明设计人刘芳慧;杨惠;张珊美玉;樊明红;王淑娟;张威;陈睿;杨明;王金本;
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申请日2020-04-27
分类号G01N29/02(20060101);G01N29/036(20060101);G01N13/00(20060101);
代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人赵静
地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2号
入库时间 2022-08-23 12:28:14

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