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一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法

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本发明公开了一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法，包括基材层、扩散层，基材层上表面阵列分布有凹槽结构，扩散层内分散有扩散粒子，扩散层的上表面呈向上凸起的拱状结构。在上述拱状扩散膜结构中，光源从拱状扩散膜的下方射入膜层，透过基材层的凹槽结构能获得更好的聚光效果，提升拱状扩散膜的辉度。凹槽结构能够更好的对扩散粒子进行筛选，从而使扩散粒子分布更均匀，进一步地提高雾度。另外，有序分布的扩散粒子能获得更低的粗糙度以及均匀的光学性能，提升了遮瑕雾化性能，且扩散层最终形成拱状结构表面能进一步提高聚光作用，既提升了辉度，又避免了现有扩散膜中存在的炫光问题。

著录项

公开/公告号CN111505751B

专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-29

原文格式PDF
申请/专利权人常州华威新材料有限公司;
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申请/专利号CN202010548179.X
发明设计人周孝成;丁利明;王嫣红;
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申请日2020-06-16
分类号G02B5/02(20060101);
代理机构33319 浙江亿维律师事务所;
代理人王乃苍
地址 213144 江苏省常州市钟楼区邹区镇工业园区
入库时间 2022-08-23 12:41:28

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1. 一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法 [P] . 中国专利： CN111505751B . 2021.10.29
2. 一种提升辉度及遮瑕雾化性能的拱状扩散膜及其制备方法 [P] . 中国专利： CN111505751A . 2020-08-07
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机译：遮瑕膜
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