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二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法

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本发明公开二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法，抛光设备由旋转驱动机构、角度调整机构、行星轮机构、超声波发生装置、水平方向振动发生器、抛光槽、工件装夹机构、抛光液循环装置构成；上述抛光槽在水平方向振动发生器作用下可以在水平方向上来回往复振动；上述抛光设备使用流体作为抛光工具，通过超声波发生装置使流体产生垂直方向的超声振动，与水平方向振动发生器所产生的水平振动构成二维流体振动；本发明可以低成本地实现平面的超光滑抛光。

著录项

公开/公告号CN100484709C

专利类型发明授权
公开/公告日2009-05-06

原文格式PDF
申请/专利权人广东工业大学;
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申请/专利号CN200310112180.4
发明设计人郭钟宁;于兆勤;何冰强;杨忠高;张永俊;
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申请日2003-11-18
分类号B24B1/00(20060101);
代理机构广州粤高专利代理有限公司;
代理人何燕玲
地址 510090 广东省广州市东风东路729号
入库时间 2022-08-23 09:02:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-11-05

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 1/00 授权公告日:20090506 终止日期:20181118 申请日:20031118

专利权的终止
2009-05-06

授权

授权
2009-05-06

授权

授权
2005-07-27

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-07-27

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-05-25

公开

公开
2005-05-25

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1. 二维流体振动超光滑表面抛光设备及其抛光方法 [P] . 中国专利： CN100484709C . 2009.05.06
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3. Device for polishing with abrasive bands superfi- smooth surface or tilled. [P] . ES244516Y . 1980-04-16

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