首页> 中国专利> 多层金属介电膜的物理气相沉积及退火处理

多层金属介电膜的物理气相沉积及退火处理

页面导航

摘要

本公开内容提供形成于基板上的膜堆叠结构和在基板上形成膜堆叠结构的方法。在一个实施方式中，在基板上形成膜堆叠结构的方法包括：于形成在基板上的氧化物层上沉积第一粘合层和在第一粘合层上沉积金属层，其中第一粘合层和金属层形成应力中和结构。

公开/公告号CN107873107B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-28

原文格式PDF
申请/专利权人应用材料公司;
展开▼

申请/专利号CN201680032205.5
发明设计人于敏锐;马楷;托马斯·权;考施·K·辛格;平尔萱;
展开▼

申请日2016-06-03
分类号H01L21/285(20060101);H01L21/768(20060101);H01L23/532(20060101);C23C28/00(20060101);C23C14/06(20060101);C23C16/40(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 13:03:17

1. 多层金属介电膜的物理气相沉积及退火处理 [P] . 中国专利： CN107873107B . 2022.01.28
2. 多层金属介电膜的物理气相沉积及退火处理 [P] . 中国专利： CN107873107A . 2018-04-03
3. PVD deposition and annealing of multilayer metal dielectric films [P] . JP6979881B2 . 2021-12-15

机译：多层金属介电膜的PVD沉积和退火
4. PVD deposition and annealing of multilayer metal dielectric films [P] . 日本专利： JP2018527456A . 2018-09-20

机译：多层金属介电膜的PVD沉积和退火
5. DIELECTRIC MULTILAYER FILM, GLASS PLATE WITH DIELECTRIC MULTILAYER FILM AND METHOD FOR PRODUCING GLASS PLATE WITH DIELECTRIC MULTILAYER FILM [P] . 日本专利： JP2013252992A . 2013-12-19

机译：介电多层膜，具有介电多层膜的玻璃板以及制造具有介电多层膜的玻璃板的方法