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用于前级固体形成量化的石英晶体微量天平的利用

摘要

本公开内容的实施方式一般相关于用于半导体处理设施的消除。更特定地,本公开内容的实施方式相关于用于前级固体形成量化的技术。在一个实施方式中,系统包含位于处理腔室及设施排放之间的一个或多个石英晶体微量天平(QCM)传感器。该一个或多个QCM传感器提供系统中产生的固体量的实时测量,而不必关闭位于处理腔室及设施排放之间的泵。此外,可使用QCM传感器提供的信息以控制用于消除离开处理腔室的流出物中的化合物的试剂的流动,以便减低固体形成。

著录项

  • 公开/公告号CN110140190B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201780074926.7

  • 申请日2017-11-13

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 13:08:10

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