首页> 中国专利> 一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统

一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统

摘要

本发明公开了一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统,包括:光源、透镜、第一偏振片、第一四分之一波片、消偏振分光棱镜、第一10倍物镜、目标物、第二10倍物镜、第二四分之一波片、第二偏振片、第一成像透镜、第一CMOS相机、第三四分之一波片、第三偏振片、第二成像透镜,第二CMOS相机和计算机;本发明的一种透射反射Mueller矩阵偏振显微成像系统,将这两种方式结合起来,通过一次实验可以同时得到目标物前向和后向Mueller矩阵,相比反射式偏振显微成像或透射式偏振显微成像可以更加全面的反映目标物的微观结构信息。

著录项

  • 公开/公告号CN110132852B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN201910328302.4

  • 申请日2019-04-23

  • 分类号G01N21/21(20060101);G01N21/01(20060101);

  • 代理机构31361 上海宛林专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人徐静杰

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2022-08-23 13:10:15

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号