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含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物及其合成方法和用途

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摘要

本发明涉及非线性光学材料领域，特别涉及一类具有下式结构的含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物及其合成方法，以及用含偶氮和噻吩环的二阶非线性光学聚合物制备交联型聚氨酯类聚合物或极化聚合物薄膜。本发明的含偶氮和噻吩环的新型高性能二阶非线性光学聚合物，由于用N＝N键代替了C＝C键，光化学稳定性大大提高。这类材料含有两个或两个以上-OH，可以经过进一步反应制备交联的聚合物薄膜或极化聚合物薄膜，它们与非交联聚合物相比具有更高的热稳定性、光稳定性以及取向稳定性。此外，由于此类偶氮化合物或其偶氮中间体为蓝色到红色的化合物，它们也可用作颜料、染料和涂料等。

著录项

公开/公告号CN100503595C

专利类型发明授权
公开/公告日2009-06-24

原文格式PDF
申请/专利权人中国科学院理化技术研究所;
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申请/专利号CN200510011307.2
发明设计人沈玉全;邱玲;祖凤华;张涛;郭昆朋;
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申请日2005-02-04
分类号
代理机构上海智信专利代理有限公司;
代理人李柏
地址 100101 北京市朝阳区大屯路甲3号
入库时间 2022-08-23 09:02:49

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-04-18

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07D 333/36 授权公告日:20090624 终止日期:20110204 申请日:20050204

专利权的终止
2009-06-24

授权

授权
2006-10-04

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-08-09

公开

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