公开/公告号CN113015346B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.12.02
原文格式PDF
申请/专利权人 鸿劲精密股份有限公司;
申请/专利号CN201911317848.6
发明设计人 刘哲瑜;
申请日2019.12.19
分类号H05K3/30;
代理机构北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司;
代理人李林
地址 中国台湾台中市
入库时间 2022-12-29 02:03:09
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-02
授权
发明专利权授予
机译: 薄型高空作业平台
机译: 形成环支撑结构的薄型半导体晶片,以及薄型化半导体晶片的方法
机译: 将相对的导体电极或半导体电极进行薄型,上述薄型化的辅助部件的配置