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改变光谱范围电磁辐射场、尤其是激光辐射场的装置和方法

摘要

本发明涉及用于改变激光辐射场强度分布的装置,它包括具有不同折射率(n2,n3)并具有两个相对放置、相互对应的光学功能分界面(5,6)的两个基片(3,4),所述分界面至少部分是弯曲的。要被改变的激光辐射场可先后穿过这些光学功能分界面(5,6),其中第一和第二基片(3,4)的折射率(n2,n3)之差(Δn)小于0.1,并且第一光学功能分界面(5)与第二光学功能分界面(6)之间的空间(9)被如此设计,使得激光射线在从第一基片(3)到第二基片(4)传播时主要只经历一个基于第一和第二基片(3,4)的折射率(n2,n3)之差(Δn)的折射。

著录项

  • 公开/公告号CN101107544B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-05-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LIMO专利管理有限及两合公司;

    申请/专利号CN200480044779.1

  • 申请日2004-12-30

  • 分类号G02B3/00(20060101);

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人吴丽丽

  • 地址 德国盖斯滕格林

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-02-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 3/00 授权公告日:20100505 终止日期:20131230 申请日:20041230

    专利权的终止

  • 2012-08-29

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G02B 3/00 变更前: 变更后: 申请日:20041230

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-05-05

    授权

    授权

  • 2008-03-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

    公开

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