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用于生成X-射线辐射并且具有根据需要调节的大的实焦点和虚焦点的装置

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摘要

本发明描述一种用于生成X-射线辐射的装置，其包括形成为球形的一部分的阳极(9)。所述装置还包括至少一个虚焦点元件(4)，适于发射所生成的光子以产生有用光束场。与先前公知的用于生成-X-射线的具有倾斜阳极表面的X-射线管和装置相比，根据本发明的装置具有更大的实焦点。因此，在假设两种装置的加速电压和每一个阳极表面单位的电子密度相等的情况下，与先前公知的X-射线管相比，根据本发明的装置能够实现每单位时间增加的辐射量。虚焦点元件(4)能够适于具体的应用领域。由于高的光子密度以及可以适于需要的焦点，可以避免时间和几何相关的成像误差。在利用根据本发明的装置生成有用辐射时，在光束场中，光子在质量和能量方面可以均匀分配，这使得在整个有用光束场中实现相等的成像条件成为可能。

著录项

公开/公告号CN101720492B

专利类型发明专利
公开/公告日2011-11-02

原文格式PDF
申请/专利权人 L·蓝托;
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申请/专利号CN200880014566.2
发明设计人 L·蓝托;
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申请日2008-05-05
分类号H01J35/08(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人邬少俊;王英
地址瑞典维坦吉
入库时间 2022-08-23 09:07:50

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2013-06-26

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 35/08 授权公告日:20111102 终止日期:20120505 申请日:20080505

专利权的终止
2011-11-02

授权

授权
2010-07-21

实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 35/08 申请日:20080505

实质审查的生效
2010-06-02

公开

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相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 用于生成X-射线辐射并且具有根据需要调节的大的实焦点和虚焦点的装置 [P] . 中国专利： CN101720492B . 2011.11.02
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