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公开/公告号CN101675562B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-12-07
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社藤仓;
申请/专利号CN200880012384.1
发明设计人 市井健太郎;细谷英行;
申请日2008-04-17
分类号
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人康建峰
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:08:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-07
授权
2010-04-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 3/06 申请日:20080417
实质审查的生效
2010-03-17
公开
机译: 抑制掺b光纤中光暗化的处理方法,抑制掺Y光纤中的光暗化和光纤激光
机译: 抑制掺b光纤中的光暗化的处理方法,抑制掺photo光的掺b光纤和光纤激光器
机译: 掺b光纤的光暗化抑制处理方法,掺DAR光纤的Y光光纤和光纤激光器
机译:掺Yb光纤中光暗化的反演分布速率依赖性和通过添加高浓度Al抑制光暗化
机译:用于抑制光暗化的高功率光纤激光器用掺-Y_(2)O_(3)纳米二氧化硅光纤
机译:掺镱光纤光暗化研究进展——溶胶凝胶法抑制光暗化
机译:高功率光纤放大器,采用耐掺Yb的掺PM Yb的耐光暗化LMA光纤,具有下包层折射率分布设计
机译:掺稀土光纤放大器材料中电离辐射引起的光暗化的研究。
机译:使用100 kHz掺Yb光纤激光器对太赫兹光进行高速太赫兹波形测量
机译:405 nm辐照减轻掺Yb光纤激光器中的光暗化
机译:掺Yb光纤放大器相位调制的实验与理论研究。