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転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、硬化膜及び電子部品

机译：转印型感光膜，固化膜图案形成方法，固化膜和电子元件

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摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer photosensitive film that can conveniently form a cured film having sufficiently low moisture-permeability and capable of inhibiting a rise in resistance during bending of an electrode pattern.;SOLUTION: A transfer photosensitive film has a support film, a first resin layer provided on the support film, and a second resin layer provided on the first resin layer. The second resin layer contains a photopolymerizable compound having a tricyclodecane skeleton or tricyclodecene skeleton and a metal oxide particle.;SELECTED DRAWING: Figure 1;COPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT

机译：解决的问题：提供一种转印光敏膜，其可以方便地形成具有足够低的透湿性并且能够抑制电极图案弯曲期间电阻上升的固化膜。设置在支撑膜上的第一树脂层和设置在第一树脂层上的第二树脂层。第二树脂层包含具有三环癸烷骨架或三环癸烯骨架和金属氧化物颗粒的可光聚合化合物;选定的图：图1;版权：（C）2019，JPO＆INPIT

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公开/公告号JP2019035801A

专利类型
公开/公告日2019-03-07

原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI CHEMICAL CO LTD;
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申请/专利号JP20170155548
发明设计人寺脇智紀;平尾昂平;
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申请日2017-08-10
分类号G03F7/027;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/095;C08L101/00;C08K5/103;B32B27/16;G06F3/041;C07C69/54;C07C49/84;C07C323/47;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 12:20:11

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