首页> 外国专利> BİR InGaAs/InP KIZILÖTESİ FOTODEDEKTÖR ODAK DÜZLEM DİZİNİ (ODD) YAPISI VE BUNUN FABRİKASYON YÖNTEMİ

BİR InGaAs/InP KIZILÖTESİ FOTODEDEKTÖR ODAK DÜZLEM DİZİNİ (ODD) YAPISI VE BUNUN FABRİKASYON YÖNTEMİ

机译:InGaAs / InP红外光电探测器聚焦平面阵列(ODD)的结构及其制备方法

摘要

Bu buluş, indiyum galyum arsenik (InGaAs) emilim katmanına sahip fotodedektör odak düzlem dizini (ODD) (Focal Plane Array=FPA) yapısı ile ilgili olup; özellikle özel bir difüzyon derinliğine sahip en az bir çinko (Zn) katkılı p-tipi difüzyon bölgesi (2) içeren ve kuru aşındırma yöntemi ile aynı anda elde edilebilen en az bir n-tipi kontak bölgesi (4) ve okuma devresi ile aradaki bağlantıyı sağlamaya yarayan en az bir n-tipi adacıklanma bölgesi (5) içeren bir InGaAs/InP kızılötesi fotodedektör ODD (100) yapısı ve bunun fabrikasyon yöntemi ile ilgilidir.
机译:本发明涉及具有铟镓砷(InGaAs)吸收层的光电探测器焦平面阵列(ODD)结构(焦平面阵列= FPA)。特别地,提供与至少一个n型接触区(4)和读取电路的连接,该读取电路包含至少一个掺杂有特定扩散深度的锌(Zn)掺杂的p型扩散区(2),并且可以与干蚀刻方法同时获得。一种InGaAs / InP红外光电探测器ODD(100)结构,其包括至少一个用作其的n型胰岛区域(5)及其制造方法。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号