机译:近红外吸收物质,近红外吸收成分,近红外截止滤光片的光谱调节方法及其制造方法,照相机模块和铜化合物光谱调节剂的制备方法
公开/公告号WO2015111532A1
专利类型
公开/公告日2015-07-30
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM CORPORATION;
申请/专利号WO2015JP51174
发明设计人 BAK SEONGMU;NARA YUKI;
申请日2015-01-19
分类号G02B5/22;C09K3;H01L27/14;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 15:05:09