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METHOD FOR FABRICATION OF ISOLATED MICRO-AND NANO-STRUCTURES USING SOFT OR IMPRINT LITHOGRAPHY

机译：使用软光刻或光刻技术制造隔离的微纳米结构的方法

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摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for fabrication of isolated micro-and nano-structures using soft or imprint lithography.SOLUTION: The presently disclosed subject matter describes the use of fluorinated elastomer-based materials, in particular perfluoropolyether (PFPE)-based materials, in high-resolution soft or imprint lithographic applications, such as micro-and nanoscale replica molding, and a first nano-contact molding of organic materials to generate high fidelity features using an elastomeric mold. Accordingly, the presently disclosed subject matter describes a method for producing freestanding, isolated nano-structures of any shape using soft or imprint lithography techniques.

机译：解决的问题：提供一种使用软光刻或压印光刻制造隔离的微结构和纳米结构的方法。解决方案：本公开主题描述了基于氟化弹性体的材料，特别是基于全氟聚醚（PFPE）的材料的使用。在高分辨率的软或压印平版印刷应用中，例如微米和纳米级复制模制，以及有机材料的首次纳米接触模制，以使用弹性体模具产生高保真度的材料。因此，当前公开的主题描述了一种使用软或压印光刻技术生产任何形状的独立的，隔离的纳米结构的方法。

著录项

公开/公告号JP2014168777A

专利类型
公开/公告日2014-09-18

原文格式PDF
申请/专利权人 UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL;
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申请/专利号JP20140054051
发明设计人 JOSEPPH M DE SIMONE;JASON P LORLANDO;ANSLEY E EXCENEL;EDWARD T SAMULSKI;R GYUDE SAMULSKI;BENJAMIN W MYNOR;RALKEN E JULIUS;GINGHER M DENISON;
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申请日2014-03-17
分类号B01J2;H01L21/027;B01J19;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:20:02

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