机译:在微流体通道内的纳米线的制造方法,由相同的纳米线和微流体装置制造的纳米线,其中包括仅在具有微流体通道的期望点上合成纳米结构的相同能力。
公开/公告号KR20120095074A
专利类型
公开/公告日2012-08-28
原文格式PDF
申请/专利号KR20110014499
发明设计人 PARK IN KYU;KIM JUNG;
申请日2011-02-18
分类号B82B3/00;B82B1/00;B82Y40/00;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 17:09:16