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METHOD FOR PROCESSING THE SURFACE OF A CRYSTALLINE SILICON SUBSTRATE FOR A SOLAR CELL CAPABLE OF IMPROVING THE EFFICIENCY OF A SOLAR CELL

机译:用于处理能够提高太阳能电池效率的太阳能电池的晶体硅基质表面的方法

摘要

PURPOSE: A method for processing the surface of a crystalline silicon substrate is provided to improve the reliability and reproduction of a process by using acid aqueous solutions at a low temperature in a first surface processing stage.;CONSTITUTION: A silicon substrate is processed by slicing a silicon ingot with a wire saw(S10). An unevenness is formed on the surface of the silicon substrate(S20). A pn junction structure is formed on the silicon substrate(S30). An antireflection layer is formed on the surface of the silicon substrate(S40). An electrode is formed on the front and the rear of the silicon substrate(S50).;COPYRIGHT KIPO 2012
机译:目的:提供一种用于处理晶体硅衬底表面的方法,以在第一表面处理阶段中通过在低温下使用酸性水溶液来提高工艺的可靠性和再现性;组成:硅衬底通过切片处理带有线锯的硅锭(S10)。在硅基板的表面上形成凹凸(S20)。在硅衬底上形成pn结结构(S30)。在硅基板的表面上形成防反射层(S40)。在硅基板的前后分别形成一个电极(S50)。;COPYRIGHT KIPO 2012

著录项

  • 公开/公告号KR20110115068A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KIM BYUNG JUN;

    申请/专利号KR20100114477

  • 发明设计人 KIM BYUNG JUN;

    申请日2010-11-17

  • 分类号H01L31/042;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:50:55

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