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PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE

机译：具有改善的成像特性的显微照相设备的投影目标以及改善该投影目标的成像特性的方法

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A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).
机译：用于微光刻的投影物镜包括分别具有局部光轴（40）的多个透镜（32、34、36、38、42），具有第一致动器（46、72）的第一操纵器（60）和至少一个第二致动器（48、74）被分配给多个透镜（32、34、36、38）中的至少一个第一透镜（42）。可以通过第一致动器（46、72）实现第一力输入和/或力矩输入，并且可以通过第二致动器（48、74）实现第二力输入和/或力矩输入，其中第一力输入和/或力矩输入以及第二力输入和/或力矩输入在以下至少一个参数上不同：力和/或力矩输入的强度，力输入相对于局部光轴的方向（40）是相对于第一透镜（42）的周边输入的力矩的方向。

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