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MOLECULAR BEAM EPITAXY (MBE) GROWTH OF SEMI-INSULATING C-DOPED GAN

机译:半绝缘C掺杂GAN的分子束外延(MBE)生长

摘要

A method of growing semi-insulating GaN epilayers by ammonia- molecular beam epitaxy (MBE) through intentional doping with carbon is described. Thick GaN layers of high resistivity are an important element in GaN based heterostructure field- effect transistors. A methane ion source is preferably used as the carbon dopant source.
机译:描述了一种通过有意掺杂碳通过氨-分子束外延(MBE)生长半绝缘GaN外延层的方法。高电阻率的厚GaN层是基于GaN的异质结构场效应晶体管中的重要元素。优选使用甲烷离子源作为碳掺杂剂源。

著录项

  • 公开/公告号CA2311061C

    专利类型

  • 公开/公告日2009-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA;

    申请/专利号CA20002311061

  • 发明设计人 TANG HAIPENG;WEBB JAMES BRIAN;

    申请日2000-06-08

  • 分类号H01L21/20;C30B23/02;C30B25/02;H01L21/203;

  • 国家 CA

  • 入库时间 2022-08-21 19:23:37

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