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Electron beam drawing apparatus, deflection amplifier, deflection control device, electron beam drawing method, method of manufacturing semiconductor device, and electron beam drawing program

机译：电子束描绘装置，偏转放大器，偏转控制装置，电子束描绘方法，半导体装置的制造方法以及电子束描绘程序

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摘要

According to an aspect of the invention, there is provided an electron beam drawing apparatus comprising at least one stage of a deflection amplifier and a deflection unit, a first storage section which stores shot information at a drawing time, a second storage section which stores a correction table indicating a relation between the shot information and an output voltage of the deflection amplifier, and an adjusting section which adjusts an output of the deflection amplifier based on the correction table stored in the second storage section and the shot information stored in the first storage section.

机译：根据本发明的一个方面，提供了一种电子束绘制装置，其包括至少一级的偏转放大器和偏转单元，在绘制时存储发射信息的第一存储部，以及存储绘制信号的第二存储部。表示击发信息与偏转放大器的输出电压之间的关系的校正表，以及基于存储在第二存储部中的校正表和存储在第一存储部中的击发信息来调整偏转放大器的输出的调整部部分。

著录项

公开/公告号US2006151721A1

专利类型
公开/公告日2006-07-13

原文格式PDF
申请/专利权人 TETSURO NAKASUGI;KAZUO TAWARAYAMA;HIROYUKI MIZUNO;TAKUMI OTA;NORIAKI SASAKI;TATSUHIKO HIGASHIKI;TAKESHI KOSHIBA;SHUNKO MAGOSHI;
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申请/专利号US20050268603
发明设计人 HIROYUKI MIZUNO;TAKUMI OTA;TETSURO NAKASUGI;KAZUO TAWARAYAMA;SHUNKO MAGOSHI;TATSUHIKO HIGASHIKI;TAKESHI KOSHIBA;NORIAKI SASAKI;
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申请日2005-11-08
分类号G21K5/10;
国家 US
入库时间 2022-08-21 21:48:33

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