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Substrate surface cleaning and/or polishing apparatus e.g. for CD or DVD, positions polishing pads of differing grain or roughness w.r.t. surface of disk-like substrate

机译:基板表面清洁和/或抛光设备,例如对于CD或DVD,请放置不同重量或粗糙度的抛光垫。盘状基材表面

摘要

The apparatus has a device for changing the distance between a substrate (12) and a first polishing device (14), and a device for periodically moving the polishing device and/or the substrate. One or more devices are provided for positioning at least two separate polishing devices (14) of differing grain or roughness, w.r.t. and parallel to the surface of the substrate (12) to be cleaned or polished. The polishing devices (14) have a planar or substantially planar surface.
机译:该设备具有用于改变基板(12)和第一抛光装置(14)之间的距离的装置,以及用于周期性地移动抛光装置和/或基板的装置。提供了一个或多个装置,用于放置至少两个不同的晶粒或粗糙度w.r.t的单独的抛光装置(14)。并平行于待清洁或抛光的基板(12)的表面。抛光装置(14)具有平坦或基本平坦的表面。

著录项

  • 公开/公告号DE20310898U1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-09-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ZIEMENDORF GMBH;

    申请/专利号DE2003210898U

  • 发明设计人

    申请日2003-07-15

  • 分类号B24B29/02;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:40:46

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