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Wafer inspection system having recipe parameter library and method of setting recipe prameters for wafer inspection

机译:具有配方参数库的晶圆检查系统和设置用于晶圆检查的配方参数的方法

摘要

The present invention relates to a method for setting the process parameters of the test equipment required for wafer inspection equipment and wafer inspection to check for defects or contamination of the wafer surface, completing the predetermined process, the invention of test equipment required for the wafer test when left to store the process parameters in advance in a library test wafers subjected to the same step process by using this, it is possible to shorten the time required for the setting of the process parameters, and to eliminate the deviation in accordance with the skill of the operator.
机译:本发明涉及一种用于设置晶片检查设备和晶片检查以检查晶片表面的缺陷或污染所需的测试设备的工艺参数,完成预定过程的方法,用于晶片测试的测试设备的发明。通过使用这种方法,当预先将处理参数存储在经过相同步骤处理的库测试晶片中时,可以缩短处理参数的设定所需的时间,并且可以消除偏差。运营商。

著录项

  • 公开/公告号KR100335491B1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NULL NULL;

    申请/专利号KR19990044304

  • 发明设计人 강규병;

    申请日1999-10-13

  • 分类号H01L21/66;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 00:29:42

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