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procedures for the development of a positive working fotoresists and entwicklungszusammensetzungen for

机译:积极工作的摄影爱好者和摄影师的发展程序

摘要

A method and composition for developing positive photoresists is illustrated. The developer of the present invention includes an ammonium hydroxide aqueous base and a surfactant of the fluorinated alkyl alkoxylate class most preferably present in an amount of from 10 to 30 ppm. A particularly preferred surfactant includes sulfonyl and amine moieties.
机译:示出了用于显影正性光刻胶的方法和组合物。本发明的显影剂包括氢氧化铵水溶液碱和氟化烷基烷氧基化物类的表面活性剂,最优选以10至30ppm的量存在。特别优选的表面活性剂包括磺酰基和胺部分。

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