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device for musteraufzeichnung using electron beam and mustersaufzeichnungsverfahren using such a device

机译：使用电子束的芥子气装置，以及使用这种装置的芥子气装置

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摘要

The electron beam drawing apparatus includes an exposure beam generation device and a workpiece installment device relatively movable in a first direction (Y) along a drawing plane of a workpiece, a second direction (X) perpendicular to the first direction, and a rotating direction along the drawing plane. Therefore, a pattern rotated by an arbitrary angle which is likely to be used in a large number in the next generation memory devices can be precisely drawn at high speed, in addition high flexibility is provided for the rotating angle and size of a figure, and an electron beam drawing apparatus which can minimize the amount of drawing data and a method of drawing with such an apparatus can be provided. IMAGE

机译：该电子束描绘装置包括曝光束产生装置和工件安装装置，其沿着工件的描绘平面在第一方向（Y），垂直于第一方向的第二方向（X）以及沿着其的旋转方向可相对移动。绘图平面。因此，可以高速精确地绘制以可能在下一代存储装置中大量使用的任意角度旋转的图案，此外，还为图形的旋转角度和尺寸提供了高度的灵活性，并且可以提供一种可以使绘图数据量最小化的电子束绘图设备以及使用这种设备进行绘图的方法。 <图像>

著录项

公开/公告号DE69416941D1

专利类型
公开/公告日1999-04-15

原文格式PDF
申请/专利权人 MITSUBISHI DENKI K.K. TOKIO/TOKYO JP;
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申请/专利号DE19946016941T
发明设计人 MORIIZUMI KOICHI C/O MITSUBISHI DENKI K.K. ITAMI-SHI HYOGO 664 JP;KAMIYAMA KINYA C/O MITSUBISHI DENKI K.K. ITAMI-SHI HYOGO 664 JP;TAOKA HIRONOBU C/O MITSUBISHI DENKI K.K. ITAMI-SHI HYOGO 664 JP;
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申请日1994-09-15
分类号H01J37/20;H01J37/317;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 02:11:11

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