机译:熔化炉中点火损失产生的材料的利用和加工,生产半导体中产生的污染,利用金属的粘结产生的化学性,利用,同工时,成败,成因和成因的产生,利用和加工产生的材料磨砂粒对抗菌性能的利用及抗菌炸药的加工与利用
公开/公告号JPH1160326A
专利类型
公开/公告日1999-03-02
原文格式PDF
申请/专利号JP19970243318
发明设计人 NINAGAWA MACHI;
申请日1997-08-04
分类号C04B35/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 02:32:37