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the courage to get wet on the end point of the device in test method

机译:在测试方法中勇于在设备终点上弄湿的勇气

摘要

The present invention relates to a method for measuring the end point of a wet etch, which comprises the steps of: supplying a solution of etchant into a container; Measuring the amount of PH change in the etch solution while the wet-etcher is performed; Calculating a thickness change amount of the material to be etched by using the PH change amount; And determining the state as an etch-end point when the calculated thickness variation reaches the preset thickness variation value.
机译:本发明涉及一种用于测量湿蚀刻的终点的方法,该方法包括以下步骤:将蚀刻剂溶液供应到容器中;以及将蚀刻剂溶液供应到容器中。在进行湿蚀刻时,测定蚀刻溶液中的PH变化量。利用PH变化量计算待刻蚀材料的厚度变化量;并且当所计算的厚度变化达到预设的厚度变化值时,将该状态确定为蚀刻终点。

著录项

  • 公开/公告号KR1019970052739A

    专利类型

  • 公开/公告日1997-07-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 문정환;

    申请/专利号KR1019950056310

  • 发明设计人 최상준;한석빈;허윤준;

    申请日1995-12-23

  • 分类号H01L21/306;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 03:19:07

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